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真空电镀（PVD）的基本原理
- 分类：行业新闻
- 作者：
- 来源：中国铝业网
- 发布时间：2015-06-10
- 访问量：
【概要描述】真空电镀(PVD)的基本原理 惰性气体或反应气体电离为气体离子，气体离子因靶(所谓靶是IP电 镀的消耗材料)的负电位形成定向运动，轰击固体靶材表面进行能量 交换，使靶材获得能量溅射出靶原子或分子，在电场加速运动下产生 物理气象沉积(PVD)于所电镀产品表面，形成电镀层。 PVD表面处理特点是： 1、光泽度好 2、无镍环保 3、延长基本寿命1~2年
真空电镀（PVD）的基本原理
【概要描述】真空电镀(PVD)的基本原理 惰性气体或反应气体电离为气体离子，气体离子因靶(所谓靶是IP电 镀的消耗材料)的负电位形成定向运动，轰击固体靶材表面进行能量 交换，使靶材获得能量溅射出靶原子或分子，在电场加速运动下产生 物理气象沉积(PVD)于所电镀产品表面，形成电镀层。 PVD表面处理特点是： 1、光泽度好 2、无镍环保 3、延长基本寿命1~2年
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- 来源：中国铝业网
- 发布时间：2015-06-10 02:24
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真空电镀(PVD)的基本原理
惰性气体或反应气体电离为气体离子，气体离子因靶(所谓靶是IP电
镀的消耗材料)的负电位形成定向运动，轰击固体靶材表面进行能量
交换，使靶材获得能量溅射出靶原子或分子，在电场加速运动下产生
物理气象沉积(PVD)于所电镀产品表面，形成电镀层。
PVD表面处理特点是：
1、光泽度好
2、无镍环保
3、延长基本寿命1~2年
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